ALPhANOV雙激光斷層注入顯微鏡D-LMS
- 品 牌：ALPhANOV
- 型 號：D-LMS
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技術資料：
ALPhANOV雙激光斷層注入顯微鏡D-LMS
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產品介紹
用于雙激光故障注入的 D-LMS 顯微鏡站是一個平臺，允許獨立聚焦和掃描兩個激光點，用于集成電路的評估。雙點注射工藝的理想選擇，它提供了所有空間和時間的靈活性，可以通過背面分析電路
性能特點
集成電路評估雙激光站(均通過顯微鏡點)
背面激光故障注入的理想選擇
具有高分辨率物鏡的1米以下單模激光光斑尺寸
兩個激光光斑都具有完全獨立的時間和空間調制
通過數百米的硅來觀察集成電路路徑上的激光點的照相機
高再現性和高分辨率激光光斑位移
包括三個阿爾法諾夫激光模塊
可選功能與配件
光學鏡頭技術
光電發射套件
熱激光刺激套件
通過CE認證的激光外殼完成自動設置
高分辨率目標
技術參數
單模光纖激光器
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PDM+/PDM+ HP |
PDM4+ and PDM4+ HP |
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脈沖持續時間 |
從1.5納秒到連續波 |
從1.5納秒到連續波 |
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峰值功率 |
高達3.2瓦 |
高達10瓦 |
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波長 |
980納米；1064牛米 |
980納米；1064牛米 |
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重復率 |
從單發到250兆赫 |
從單發到250兆赫 |
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命令接口 |
TTL/LVTTL /軟件& dlls |
TTL/LVTTL /軟件& dlls |
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光束質量 |
單模 |
單模 |
InGaAs 紅外相機
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Captor |
640x512 µm |
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動態量程 |
140 dB |
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接口 |
USB(包含軟件) |
電學
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電壓 |
220 V/110 V |
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電流 |
16 A |
津公網安備12010102000945號
